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納米級硅溶膠電子拋光藍(lán)寶石CMP半導(dǎo)體研磨氧化硅拋光液


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最后更新: 2025-01-22 15:42
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產(chǎn)品詳細(xì)說明
硅溶膠在拋光中的應(yīng)用

1.納米二氧化硅拋光液是以硅溶膠為主要原料,經(jīng)過特殊工藝生產(chǎn)的一種拋光產(chǎn)品,廣泛用于多種材料表面的平坦化拋光,如電子產(chǎn)品的金屬外殼、手機(jī)攝像頭玻璃、 Home鍵、計(jì)算機(jī)硬盤盤片、硅晶片等表面的拋光加工。

2.納米二氧化硅拋光液的拋光過程是在拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)的,在拋光過程中拋光墊和工件相對做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動,拋光液(磨料)在旋轉(zhuǎn)的拋光墊與工件之間流動,在一定壓力、溫度和轉(zhuǎn)速作用下,發(fā)生化學(xué)機(jī)械拋光過程-簡稱CMP(Chemical Mechanical Polishing),因此拋光過程是在化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用下,使工件表面平整化(拋光)。

3.在拋光過程中,拋光液的主要作用是:

①拋光作用,通過研磨、腐蝕、吸附反應(yīng)物來實(shí)現(xiàn);

②潤滑作用;

③冷卻降溫作用;

④沖洗排渣作用。

4.硅溶膠是納米拋光液的重要組成部分,其粒徑、粒子形態(tài)、粒徑分布、濃度、pH和雜質(zhì)含量會直接影響拋光材料表面去除率和表面粗糙度或波紋度之間的平衡,進(jìn)而影響材料表面的拋光質(zhì)量。我公司與相關(guān)行業(yè)合作密切,致力于不斷推出和優(yōu)化拋光液系列產(chǎn)品,為客戶提供 的服務(wù)和解決方案。我公司可以生產(chǎn)多種特性的硅溶膠拋光液。

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